Un procédé innovant pour déposer les MOFs en couches minces

Les MOFs sont des matériaux poreux hybrides formés par l’assemblage d’ions métalliques et de ligands organiques. Depuis une vingtaine d’années, ils suscitent un intérêt croissant aussi bien au niveau académique qu’industriel à cause de leur capacité unique d’adsorption. Pour leur intégration dans des dispositifs de conversion d’énergie ou de détection de gaz comme les polluants de l’air, leur mise en forme en couches minces est indispensable. Récemment, le procédé par dépôt de couches atomiques et moléculaire (ALD/MLD) mettant en jeu des réactions entre la surface d’un matériau et des gaz a été proposé par l’équipe de M. Karppinen (Univ Alto, Finlande). Pour la première fois en France, le Laboratoire des multimatériaux et interfaces (CNRS/Université Claude Bernard Lyon 1) vient d’adapter ce procédé ALD/MLD à la croissance de couches minces de MOFs à base de cuivre et d’acide téréphtalique.

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